阿斯麥曾經(jīng)說(shuō)過(guò)“就算公開(kāi)圖紙，你們也造不出來(lái)”，業(yè)界也曾普遍認(rèn)為中國(guó)人現(xiàn)在不能、未來(lái)也不可能造出如此高精密超復(fù)雜的光刻機(jī)設(shè)備。中國(guó)人造不出光刻機(jī)？不好意思，上海微電子開(kāi)發(fā)的純國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)已經(jīng)搞到了28nm！

光刻機(jī)主要由工件臺(tái)、投影物鏡和光源三大核心子系統(tǒng)件組成。日本尼康株式會(huì)社的社長(zhǎng)來(lái)中國(guó)訪問(wèn)時(shí)曾說(shuō)過(guò)這么一句話：“光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)雖然很難，我相信你們能夠研制出來(lái)，但工件臺(tái)恐怕就拿不下來(lái)了，因?yàn)檫@個(gè)系統(tǒng)太復(fù)雜了”，不好意思，中國(guó)人偏偏把最難的事情搞定了！

華卓精科首席科學(xué)家、清華大學(xué)朱煜教授帶領(lǐng)的團(tuán)隊(duì)攻克光刻機(jī)工件臺(tái)科技難題！此次光刻機(jī)雙工件臺(tái)的突破打破了ASML公司在工件臺(tái)上的技術(shù)壟斷，成為世界上第二家掌握雙工件臺(tái)核心技術(shù)的公司。華卓精科成為國(guó)內(nèi)首家可自主研發(fā)并實(shí)現(xiàn)商業(yè)化生產(chǎn)的光刻機(jī)雙工件臺(tái)供應(yīng)商。

作為上海微電子光刻機(jī)雙工件臺(tái)的供應(yīng)商，華卓精科與上海微電子長(zhǎng)期保持良好的合作關(guān)系，為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)崛起奠定了基礎(chǔ)，占據(jù)了中國(guó)商用光刻機(jī)雙工件臺(tái)的主要市場(chǎng)份額。

業(yè)內(nèi)人士表示，華卓精科在光刻機(jī)雙工件臺(tái)技術(shù)上的突破，為我國(guó)自主研發(fā)65nm至28nm雙工件干臺(tái)式及浸沒(méi)式光刻機(jī)提供了技術(shù)賦能，其對(duì)于國(guó)產(chǎn)核心裝備發(fā)展具有遠(yuǎn)大的戰(zhàn)略意義。一臺(tái)EUV光刻機(jī)售價(jià)高達(dá)1億歐元，相信不遠(yuǎn)的將來(lái)國(guó)產(chǎn)EVU光刻機(jī)一定會(huì)賣(mài)出白菜價(jià)，到時(shí)候ASML就等著哭去吧！

在上一期的《上海微電子光刻機(jī)能否突破挑戰(zhàn)荷蘭ASML公司》一文中，有許多網(wǎng)友對(duì)中國(guó)能制造光刻機(jī)給予極大的支持。不過(guò)也有的網(wǎng)友有著相反的聲音，認(rèn)為我們現(xiàn)有的技術(shù)很難追趕ASML公司，甚至認(rèn)為追趕荷蘭ASML的技術(shù)幾乎是不可能的。帶著這個(gè)問(wèn)題有我?guī)c(diǎn)看法，哪怕被懟回來(lái)我也要說(shuō)一說(shuō)。

 

人民日?qǐng)?bào)：《荷蘭ASML在中國(guó)建廠，中國(guó)制造光刻機(jī)還遠(yuǎn)嗎》

 

一、荷蘭ASML為什么能夠成為行業(yè)領(lǐng)頭羊？

話說(shuō)荷蘭ASML為什么能夠成為行業(yè)領(lǐng)頭羊，并且成為世界壟斷地位？這與20世紀(jì)80年代在紐約廣場(chǎng)簽署的《廣場(chǎng)協(xié)議》有著直接的關(guān)系。

在這種情況下，日本出現(xiàn)了嚴(yán)重的通貨膨脹，日本經(jīng)濟(jì)遭受到前所未有的打擊。同時(shí)佳能，索尼公司在日本經(jīng)濟(jì)不景氣的情況下無(wú)力與荷蘭ASML公司競(jìng)爭(zhēng)。當(dāng)然，再以美國(guó)為首的主導(dǎo)下，韓國(guó)的三星，臺(tái)灣的臺(tái)積電以及美國(guó)的英特爾公司等以入股荷蘭ASML的形式入股光刻機(jī)研發(fā)。

有些網(wǎng)友認(rèn)為，當(dāng)時(shí)的荷蘭ASML的光刻機(jī)就是一場(chǎng)豪賭，只不過(guò)賭贏了。對(duì)此，我不同意這種觀點(diǎn)。我的觀點(diǎn)是他們集中了世界上的優(yōu)秀人才，做出世界上最優(yōu)秀的機(jī)器。

二、《瓦森納協(xié)定》安排早就防著中國(guó)崛起

我們看到名單里有日本。那么，佳能，索尼的光刻機(jī)制造優(yōu)秀人才去了哪里？對(duì)了，就是到了荷蘭的ASML公司去了。ASML能夠做大做強(qiáng)，就是集中了世界上的頂尖人才才支撐起來(lái)的。

現(xiàn)在，美國(guó)打壓華為，甚至全面禁止美國(guó)技術(shù)在華為的應(yīng)用，從《瓦森納協(xié)定》就能看出在關(guān)鍵技術(shù)上多么懼怕中國(guó)的崛起。

三、荷蘭ASML在中國(guó)無(wú)錫建廠

 

據(jù)媒體報(bào)道，日前，全球移動(dòng)芯片巨頭荷蘭阿斯麥ASML公司正式宣布，公司已研制出第一代HMI多光速檢測(cè)機(jī)。具體來(lái)看，這款HMI多光速檢測(cè)機(jī)是一款全新的半導(dǎo)體技術(shù)，將主要用于以5nm為基礎(chǔ)的芯片制程工藝，成功覆蓋市場(chǎng)后，將有望極大提升5nm芯片的產(chǎn)能。自去年開(kāi)始，美國(guó)對(duì)中國(guó)科技企業(yè)實(shí)行限制令，給華為等中國(guó)品牌的長(zhǎng)期發(fā)展造成了相當(dāng)大的壓力和阻礙作用，而有了ASML的加入，將能夠在一定程度上緩解中國(guó)被限制后芯片緊缺的窘境。

荷蘭ASML在中國(guó)建廠，尤其是在美國(guó)全面打壓華為的背景下，不得不說(shuō)，中國(guó)的崛起尤其是中國(guó)的市場(chǎng)的廣闊前景是世界認(rèn)識(shí)中國(guó)的主流共識(shí)。

荷蘭ASML公司在中國(guó)無(wú)錫建廠，無(wú)疑對(duì)中國(guó)光刻機(jī)生產(chǎn)制造是極大的利好。也就是說(shuō)荷蘭ASML在中國(guó)建廠，中國(guó)制造光刻機(jī)還遠(yuǎn)嗎？

四、在芯片領(lǐng)域我國(guó)有重大突破

南大光電光刻膠獲得突破7nm.

我國(guó)碳基半導(dǎo)體材料取得關(guān)鍵性突破.

華為光芯片技術(shù)更先進(jìn).

打破光刻機(jī)雙工件臺(tái)"技術(shù)壟斷"，中國(guó)距離生產(chǎn)頂尖光刻機(jī)還差多遠(yuǎn).?

北京華卓精科科技股份有限公司由清華IC裝備團(tuán)隊(duì)在清華大學(xué)及其下屬“北京-清華工業(yè)技術(shù)研究院”和02專(zhuān)項(xiàng)的支持下創(chuàng)立，是一家肩負(fù)著專(zhuān)項(xiàng)重大科研成果產(chǎn)業(yè)化重任的高新技術(shù)企業(yè)。公司建立初衷在于將清華大學(xué)在02專(zhuān)項(xiàng)中積累的高端壟斷技術(shù)落地產(chǎn)業(yè)化，通過(guò)“技術(shù)輻射＆下行”的方式，面向國(guó)內(nèi)市場(chǎng)提供產(chǎn)業(yè)界急需的高端零部件、子系統(tǒng)類(lèi)產(chǎn)品。

光刻機(jī)雙工件臺(tái)是什么？

光刻機(jī)中最關(guān)鍵的兩個(gè)子系統(tǒng)，一個(gè)是超精密曝光光學(xué)系統(tǒng)，另外一個(gè)就是超精密工件臺(tái)系統(tǒng)。雙工件臺(tái)，即在一臺(tái)光刻機(jī)內(nèi)有兩個(gè)承載晶圓的工件臺(tái)。兩個(gè)工件臺(tái)相互獨(dú)立，但同時(shí)運(yùn)行，一個(gè)工件臺(tái)上的晶圓做曝光時(shí)，另一個(gè)工件臺(tái)對(duì)晶圓做測(cè)量等曝光前的準(zhǔn)備工作。當(dāng)曝光完成之后，兩個(gè)工件臺(tái)交換位置和職能，如此循環(huán)往復(fù)實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的高產(chǎn)能。

雙工件臺(tái)的發(fā)明使光刻機(jī)的產(chǎn)能有了大幅度提高。傳統(tǒng)的光刻機(jī)中只有一個(gè)工件臺(tái)，晶圓的上下片、測(cè)量、對(duì)準(zhǔn)、曝光都是順序進(jìn)行的；而在雙工件臺(tái)中，大部分測(cè)量、校正工作可以在另一個(gè)工件臺(tái)上并行。先進(jìn)光刻機(jī)要求有極高的對(duì)準(zhǔn)精度，而對(duì)準(zhǔn)精度與所需要的測(cè)量的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記數(shù)目成反比，即測(cè)量的標(biāo)識(shí)越多，所能表達(dá)的對(duì)準(zhǔn)精度越高。大量的測(cè)量必然導(dǎo)致單工件臺(tái)光刻機(jī)的產(chǎn)能進(jìn)一步下降。一般曝光的時(shí)間要大于測(cè)量和校正的時(shí)間，因此，在雙工件臺(tái)設(shè)計(jì)中系統(tǒng)可以做更多更復(fù)雜的測(cè)量，而不影響產(chǎn)能。

圖1雙工件臺(tái)（TWINSCAN）光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖

中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)發(fā)展到什么階段？

<電子發(fā)燒友>查閱資料發(fā)現(xiàn)華卓精科主要還是專(zhuān)注于高端零部件、子系統(tǒng)類(lèi)產(chǎn)品，比如光刻機(jī)雙工件臺(tái)。整體而言，國(guó)內(nèi)可以生產(chǎn)光刻機(jī)的廠商相當(dāng)少，目前來(lái)看，上海微電裝備的發(fā)展在國(guó)內(nèi)最為領(lǐng)先，是國(guó)內(nèi)唯一一家生產(chǎn)高端前道光刻機(jī)整機(jī)的公司，其目前可生產(chǎn)加工90nm工藝制程的光刻機(jī)，同時(shí)承擔(dān)國(guó)家科技重大專(zhuān)項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝專(zhuān)項(xiàng)”（02專(zhuān)項(xiàng)）的65nm光刻機(jī)研制，代表國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)最高水平。

上海微電子裝備光刻機(jī)主要用于廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造領(lǐng)域，2018年出貨大概在50-60臺(tái)之間。資料顯示，上海微電子SSX600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求，可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。

圖：上海微電子SSX600系列光刻機(jī)主要產(chǎn)品型號(hào)及參數(shù)

事實(shí)上，上海微電子的光刻機(jī)技術(shù)水平與國(guó)際巨頭的差距，基本上可以反應(yīng)目前國(guó)內(nèi)光刻機(jī)技術(shù)在國(guó)際的位置。很明顯，上海微電子與國(guó)際三巨頭尼康、佳能（中高端光刻機(jī)市場(chǎng)已基本沒(méi)落）、ASML（中高端市場(chǎng)近乎壟斷）仍然存在很大差距。不過(guò)，有知乎網(wǎng)友認(rèn)為，新技術(shù)的創(chuàng)新與應(yīng)用，比學(xué)習(xí)現(xiàn)有知識(shí)技術(shù)的追趕，更難超越更具有偶然性，這也是為什么發(fā)達(dá)國(guó)家增長(zhǎng)率越來(lái)越低，而中國(guó)作為發(fā)展中國(guó)家的增長(zhǎng)卻相當(dāng)快，中國(guó)的光刻機(jī)制造會(huì)越來(lái)越好。

從2018年各個(gè)光刻機(jī)制造商的銷(xiāo)售數(shù)據(jù)，可以看出發(fā)展逐漸趨于平緩。

2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨374臺(tái)，較2017年的294臺(tái)增加80臺(tái)，增長(zhǎng)27.21%。ASML、Nikon、Canon三巨頭光刻機(jī)總營(yíng)收118.92億歐元，較2017年增長(zhǎng)25.21%。從EUV、ArFi、ArF機(jī)型的出貨來(lái)看，全年共出貨134臺(tái)。其中ASML出貨120臺(tái)，占有9成的市場(chǎng)。

2018年ASML光刻機(jī)出貨224臺(tái)，營(yíng)收達(dá)82.76億歐元，較2017年成長(zhǎng)35.74%。其中EUV光刻機(jī)營(yíng)收達(dá)18.86億歐元，較2017年增加7.85億歐元。EUV光刻機(jī)出貨18臺(tái)，較2017年增加7臺(tái)；ArFi光刻機(jī)出貨86臺(tái)，較2017年增加10臺(tái)；ArF光刻機(jī)出貨16臺(tái)，較2017年增加2臺(tái)；KrF光刻機(jī)出貨78臺(tái)，增加7臺(tái)；i-line光刻機(jī)出貨26臺(tái)，和2017年持平。

2018年單臺(tái)EUV平均售價(jià)1.04億歐元，較2017年單臺(tái)平均售價(jià)增長(zhǎng)4%。而在2018年一季度和第四季的售價(jià)更是高達(dá)1.16億歐元。目前全球知名廠商包括英特爾Intel、三星Samsung、臺(tái)積電TSMC、SK海力士SKHynix、聯(lián)電UMC、格芯GF、中芯國(guó)際SMIC、華虹宏力、華力微等等全球一線公司都是ASML的客戶。2018年中國(guó)已經(jīng)進(jìn)口多臺(tái)ArFi光刻機(jī)，包括長(zhǎng)江存儲(chǔ)、華力微二期。

2018年度（非財(cái)年），Nikon光刻機(jī)出貨106臺(tái)，營(yíng)收達(dá)20.66億歐元，較2017年成長(zhǎng)25.29%。2018年度，Nikon半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨36臺(tái)，比2017年度增加9臺(tái)，增長(zhǎng)33.33%。其中ArFi光刻機(jī)出貨5臺(tái)，較2017年度減少1臺(tái)；ArF光刻機(jī)出貨9臺(tái)，較2017年度增加1臺(tái)；KrF光刻機(jī)出貨5臺(tái)，較2017年度增加3臺(tái)；i-line光刻機(jī)出貨17臺(tái)，較2017年度增加6臺(tái)。Nikon半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨36臺(tái)中，其中全新機(jī)臺(tái)出貨19臺(tái)，翻新機(jī)臺(tái)出貨17臺(tái)。2018年度，Nikon面板（FPD）用光刻機(jī)出貨70臺(tái)。

2018年Canon光刻機(jī)出貨183臺(tái)，營(yíng)收達(dá)15.5億歐元，較2017年微增1.6%。2018年Canon半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨達(dá)114臺(tái)，較2017年增加44臺(tái)，增長(zhǎng)62.85%。但是主要是i-line、KrF兩個(gè)低端機(jī)臺(tái)出貨。2018年全年面板（FPD）用光刻機(jī)出貨69臺(tái)。

而國(guó)內(nèi)的發(fā)展情況如何呢？國(guó)家重大專(zhuān)項(xiàng)人員投入上正在加大力度，遵循系統(tǒng)工程的開(kāi)發(fā)流程，整機(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)和集成能力很好，目前產(chǎn)品輻射到泛半導(dǎo)體行業(yè)中低端光刻機(jī)和類(lèi)光刻機(jī)設(shè)備，產(chǎn)品市場(chǎng)前景不錯(cuò)。封裝光刻機(jī)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)80%以上占有率，在東南亞也有銷(xiāo)售；LED光刻機(jī)近期發(fā)力，訂單多的干不完，年前，6代TFT面板光刻機(jī)已出廠，進(jìn)入量產(chǎn)節(jié)奏。

整體而言，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)與國(guó)外光刻機(jī)企業(yè)存在差距，但是不管是在市場(chǎng)占有率，還是一些關(guān)鍵技術(shù)上，都在逐漸突破。

根據(jù)當(dāng)時(shí)的報(bào)道顯示，圍繞雙工件臺(tái)系統(tǒng)的研發(fā)，該項(xiàng)目組“完成專(zhuān)利申請(qǐng)231項(xiàng)（其中國(guó)際發(fā)明專(zhuān)利41項(xiàng)），已獲得授權(quán)122項(xiàng)；培養(yǎng)了一支近200人的研發(fā)團(tuán)隊(duì)，建立了高水平研發(fā)平臺(tái)，為后續(xù)產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。”

而此次準(zhǔn)備在科創(chuàng)板上市的華卓精科的團(tuán)隊(duì)正是清華大學(xué)機(jī)械工程系朱煜教授領(lǐng)導(dǎo)的光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)研究團(tuán)隊(duì)。

根據(jù)華卓精科官網(wǎng)資料顯示，公司成立時(shí)間為2012年5月9日，由清華IC裝備團(tuán)隊(duì)在清華大學(xué)及其下屬“北京-清華工業(yè)技術(shù)研究院”和02專(zhuān)項(xiàng)的支持下創(chuàng)立，是一家肩負(fù)著專(zhuān)項(xiàng)重大科研成果產(chǎn)業(yè)化重任的高新技術(shù)企業(yè)。公司建立初衷在于將清華大學(xué)在02專(zhuān)項(xiàng)中積累的高端壟斷技術(shù)落地產(chǎn)業(yè)化，通過(guò)“技術(shù)輻射＆下行”的方式，面向國(guó)內(nèi)市場(chǎng)提供產(chǎn)業(yè)界急需的高端零部件、子系統(tǒng)類(lèi)產(chǎn)品。華卓精科主要從事半導(dǎo)體制造裝備及其關(guān)鍵零部件研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售與技術(shù)服務(wù)。

主營(yíng)產(chǎn)品包含光刻機(jī)雙工件臺(tái)以及衍生產(chǎn)品——超精密運(yùn)動(dòng)定位平臺(tái)和高性能主動(dòng)隔振系統(tǒng)，同時(shí)研發(fā)生產(chǎn)更高技術(shù)難度的產(chǎn)品，如IGBT激光快速退火設(shè)備、靜電卡盤(pán)、模塊化磁浮運(yùn)動(dòng)平臺(tái)等高技術(shù)產(chǎn)品。

華卓精科官網(wǎng)顯示，其生產(chǎn)的光刻機(jī)雙工件臺(tái)主要應(yīng)用于65nm及以下節(jié)點(diǎn)的ArF干式、浸沒(méi)式步進(jìn)掃描光刻機(jī)、KrF步進(jìn)掃描光刻機(jī)，單臺(tái)系列產(chǎn)品應(yīng)用于i線、g線步進(jìn)掃描光刻機(jī)及封裝光刻機(jī)等。華卓精科表示，其生產(chǎn)的光刻機(jī)雙工件臺(tái)，打破了ASML公司在光刻機(jī)工件臺(tái)上的技術(shù)上的壟斷，成為世界上第二家掌握雙工件臺(tái)核心技術(shù)的公司。

根據(jù)公司2017年年報(bào)，華卓精科主要客戶為上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司、浙江啟爾機(jī)電技術(shù)有限公司、上海集成電路研發(fā)中心有限公司、中國(guó)科學(xué)院光電研究院等。

從新三板退市，轉(zhuǎn)戰(zhàn)科創(chuàng)板

為了推動(dòng)公司的資本化運(yùn)作，2015年12月11日，華卓精科834733.OC在新三板掛牌上市。

當(dāng)時(shí)的資料顯示，自公司成立至2014年12月31日，華卓精科營(yíng)業(yè)收入僅為1106.958932萬(wàn)元，凈利潤(rùn)36.414245萬(wàn)元，公司總資產(chǎn)4347.217138萬(wàn)元，凈資產(chǎn)863.952303萬(wàn)元。

近幾年，隨著國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，華卓精科的營(yíng)收及利潤(rùn)呈持續(xù)快速增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。

財(cái)報(bào)顯示，華卓精科2017年?duì)I業(yè)收入為5410.22萬(wàn)元，較上年同期增長(zhǎng)14.8%；歸屬于掛牌公司股東的凈利潤(rùn)為1230.09萬(wàn)元，較上年同期增長(zhǎng)70.17%；

2018年半年報(bào)顯示，截至2018年6月30日，華卓精科實(shí)現(xiàn)營(yíng)收3193.03萬(wàn)元，較去年同期增長(zhǎng)44.53%；歸屬于掛牌公司股東的凈利潤(rùn)為683.66萬(wàn)元，較去年同期下滑10.34%。而凈利潤(rùn)減少的主要原因是2018年公司加大研發(fā)投入，自主研發(fā)支出比上年同期增長(zhǎng)374萬(wàn)元，費(fèi)用化后導(dǎo)致凈利潤(rùn)減少。

由于新三板缺乏流動(dòng)性，同時(shí)，隨著更為具吸引力的科創(chuàng)板的政策的出臺(tái)，華卓精科也開(kāi)始計(jì)劃轉(zhuǎn)戰(zhàn)科創(chuàng)板。2019年2月13日起，華卓精科終止在新三板掛牌，退市前市值為22.5億元。

值得注意的是，在新三板退市之前，2018年，華卓精科在10月進(jìn)行了一輪8700萬(wàn)人民幣的戰(zhàn)略融資，引入了中國(guó)國(guó)際金融股份有限公司、紅星美凱龍、渾璞投資基金作為股東。11月，紅星美凱龍及渾璞投資基金又參與了華卓精科的價(jià)值7587.50萬(wàn)元人民幣的定向增發(fā)。而根據(jù)公告，增發(fā)募集的7587.50萬(wàn)元資金，主要用于公司半導(dǎo)體裝備關(guān)鍵零部件研發(fā)制造項(xiàng)目、補(bǔ)充流動(dòng)資金、償還銀行貸款、購(gòu)買(mǎi)土地使用權(quán)。不過(guò)，在外界看來(lái)，華卓精科接連的兩次融資似乎也是在為上科創(chuàng)板做準(zhǔn)備。

清華朱煜教授為第一大股東

根據(jù)天眼查顯示，作為華卓精科的創(chuàng)始人兼董事——現(xiàn)任清華大學(xué)機(jī)械系機(jī)電所所長(zhǎng)朱煜教授目前是華卓精科的控股股東，持股比例為37.77%。

此外華卓精科第四大股東——北京艾西眾創(chuàng)科技發(fā)展中心（有限合伙）（員工持股平臺(tái)，持股華卓精科5.82%）的第一大股東也是朱煜，持股15.71%。

此外，在前十大股東當(dāng)中，公司董事長(zhǎng)吳勇持股2.87%、董事徐登峰持股2.96%、董事張鳴持股3.95%、董事楊開(kāi)明持股3.47%。

值得注意的是，根據(jù)華卓精科2018年的半年報(bào)，朱煜與徐登峰、張鳴、楊開(kāi)明、尹文生、胡金春、穆海華、成榮等 7 位自然人股東共同簽署了《一致行動(dòng)協(xié)議》。

也就是說(shuō)，朱煜實(shí)際上可能控制著華卓精科60%以上的股權(quán)。

小結(jié)：

從以上的介紹，我們不難看出，華卓精科確實(shí)在光刻機(jī)雙工件臺(tái)技術(shù)上擁有著自己核心的優(yōu)勢(shì)。但是，從市場(chǎng)的角度來(lái)看，光刻機(jī)雙工件臺(tái)的客戶主要還是光刻機(jī)整機(jī)廠商。而目前近90%的光刻機(jī)市場(chǎng)都被ASML所占據(jù)，雖然國(guó)內(nèi)也有上海微電子、中電科四十五所、中電科四十八所等廠商和研究機(jī)構(gòu)進(jìn)行光刻機(jī)的研發(fā)，上海微電子還研發(fā)出了中端的投影式光刻機(jī)，但它們?cè)谡麄€(gè)光刻機(jī)市場(chǎng)的出貨和影響非常的小，這也使得華卓精科雖然看上去營(yíng)收和利潤(rùn)增長(zhǎng)很快，但是實(shí)際的營(yíng)收和凈利潤(rùn)規(guī)模卻很小，一年的營(yíng)收可能還不如ASML一臺(tái)EUV光刻機(jī)的銷(xiāo)售額的1/10高。

不過(guò)，即便如此，華卓精科在光刻機(jī)雙工件臺(tái)技術(shù)上的突破，也為我國(guó)自主研發(fā)65nm 至 28nm 雙工件干臺(tái)式及浸沒(méi)式光刻機(jī)奠定了基礎(chǔ)，其戰(zhàn)略意義遠(yuǎn)高于其所帶來(lái)的營(yíng)收及利潤(rùn)。

而且，我們也應(yīng)該用發(fā)展的眼光來(lái)看問(wèn)題，隨著國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的加速，國(guó)內(nèi)對(duì)于光刻機(jī)的需求也在快速增長(zhǎng)，根據(jù)預(yù)計(jì)2019、2020 年我國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)空間約為37.68 億美元、51.12 億美元。而在國(guó)產(chǎn)替代的大趨勢(shì)之下，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)有望迎來(lái)高速發(fā)展。

裝備材料基金入股華卓精科，萬(wàn)業(yè)企業(yè)布局光刻機(jī)雙工臺(tái)

萬(wàn)業(yè)企業(yè)通過(guò)裝備材料基金參投華卓精科，也有利于夯實(shí)萬(wàn)業(yè)企業(yè)戰(zhàn)略布局國(guó)產(chǎn)設(shè)備賽道，提升萬(wàn)業(yè)企業(yè)的產(chǎn)業(yè)協(xié)同和價(jià)值收益。